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水處理設備反滲透膜污染后清洗方法

文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2019/7/3     瀏覽次數:    
在反滲透設備運行一段時間后,反滲透膜元件將被水中的懸浮固體或不溶物質污染。這些污染物中最常見的是碳酸鈣垢,硫酸鈣垢,金屬氧化物垢和硅沉積物。和有機或生物沉積物。污染物的性質和污染率與供水條件有關。污染正在慢慢發展。如果不及早采取措施,污染將損害反滲透膜元件的性能并在相對短的時間內減少反滲透膜的使用時間。

一、反滲透膜組分的污染物

反滲透膜設備運行一段時間后,反滲透膜元件將被水中的懸浮固體或不溶物質污染。這些污染物中最常見的是碳酸鈣垢,硫酸鈣垢,金屬氧化物垢和硅沉積物。和有機或生物沉積物。污染物的性質和污染率與供水條件有關。污染正在慢慢發展。如果不及早采取措施,污染將損害反滲透膜元件的性能并在相對短的時間內減少反滲透膜的使用時間。

定期檢查系統的整體性能是確認膜組件污染的好方法。不同的污染物會對膜組件的性能造成不同程度的損害。

二、去除反滲透膜污染物

反滲透膜污染物的去除可以通過化學清洗和物理沖洗來實現,有時通過改變操作條件來實現。作為一般規則,當發生下列情況之一時,應進行反滲透膜清潔。

1.在常壓下,產出水的水流量下降到正常值的10到15%。

2.為了保持產品的出水流量,經過溫度校正的給水壓力增加10到15?r

3.反滲透水的水質降低10至15℃,鹽滲透率增加10至15℃

4.使用壓力增加10到15?r

5. RO膜的壓差在不同時間段內顯著增加。

三、反滲透膜的常見污染物及其去除方法:

1,碳酸鈣垢

當阻垢劑添加系統失效或出現酸系統時,進水的pH升高,然后可沉積碳酸鈣。應盡早發現碳酸鈣垢的沉淀,以防止晶體在反滲透膜表面生長。造成損害,并且早期發現碳酸鈣垢。可以通過將進料水的pH值在3.0和5.0之間運行1至2小時來除去。對于沉淀時間較長的碳酸鈣垢,應使用檸檬酸清洗液進行循環清洗或過夜浸泡。

確保任何清潔溶液的pH值不低于2.0,否則可能會對RO膜元件造成損壞,尤其是在溫度較高時。最高pH值不應高于11.0。使用氨來增加pH值,使用硫酸或鹽酸來降低pH值。

2,硫酸鈣垢

清潔溶液是從反滲透膜表面除去硫酸鈣垢的最佳方法。

3,金屬氧化物垢

可以使用如上所述的去除碳酸鈣垢的方法除去沉積的氫氧化物。

4,硅標度

對于不與金屬化或有機材料共生的硅垢,它們只能通過特殊的清潔方法去除。詳細方法是聯系海德能源。

5,有機沉積物

可以用清潔溶液除去有機沉積物(例如微生物粘液或霉菌)。為了防止再傳播,應使用專業的滅菌解決方案在系統中循環和浸泡。通常,浸泡它需要很長時間,例如反滲透設備。使用三天后,必須進行消毒。

四、清洗反滲透膜組件的一般步驟:

1.將清潔,無游離的無氯反滲透產品水從清洗罐泵入壓力容器并將其排出幾分鐘。

2.使用干凈的產品水在清潔槽中準備清潔溶液。

3.將清潔溶液在壓力容器中循環1小時或預設時間。

4.清潔完成后,排空清洗槽并沖洗,然后用清潔的產品水填充清洗槽進行進一步清洗。

5.沖洗反滲透系統后,運行反滲透系統,打開產品排水閥,直至產品水清潔,無泡沫或無清潔劑。

反滲透膜需要定期沖洗,如果反滲透膜受到污染后要清洗消毒,保證反滲透設備運行正常、出水水質合格。

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